Ứng dụng khí Clo sản xuất công nghiệp Silic tetraclorua SiCl4

Silicon tetracloride là một hợp chất vô cơ với công thức hóa học SICL4. Nó là một nguyên liệu thô quan trọng được sử dụng trong sản xuất silicon, silicon với độ tinh khiết và sợi quang cao. Nó cũng được sử dụng trong nhiều ngành công nghiệp khác nhau. Tetracloride được sản xuất thương mại bởi phản ứng giữa silicon và khí clo ở nhiệt độ cao.

Silicon tetracloride là một hợp chất vô cơ với công thức hóa học SICL4. Nó là một nguyên liệu thô quan trọng được sử dụng trong sản xuất silicon, silicon với độ tinh khiết và sợi quang cao. Nó cũng được sử dụng trong nhiều ngành công nghiệp khác nhau. Tetracloride được sản xuất thương mại bởi phản ứng giữa silicon và khí clo ở nhiệt độ cao.

Quy trình công nghiệp:

Việc sản xuất silicon tetrachloride bắt đầu bằng phản ứng của silicon và khí clo. Phản ứng nhiệt rất cao và nhiệt độ trên 800 ° C là cần thiết để phản ứng. Phản ứng thường được thực hiện trong lò phản ứng sàn sôi hoặc lò phản ứng quay. Trong lò phản ứng sàn sôi, khí silicon và khí clo được đặt vào một lớp hạt silicon silicon sôi. Các hạt silica hoạt động như một phương tiện truyền nhiệt và giúp duy trì nhiệt độ phản ứng. Phản ứng xảy ra trên bề mặt của các hạt silica và hơi silicon tetrachloride được loại bỏ khỏi lò phản ứng bằng dòng khí nitơ.

Lò phản ứng bao gồm một trống hình trụ quay xung quanh trục của nó. Silicon và clo được đặt vào một đầu của trống và phản ứng xảy ra khi trống quay. Hơi tetracloride được loại bỏ khỏi lò phản ứng bằng khí nitơ. Lò phản ứng quay hiệu quả hơn so với lò phản ứng sôi vì nó có thể hoạt động ở nhiệt độ cao hơn và có thể tạo ra năng suất tetrachloride cao hơn.

Phản ứng giữa silicon và khí clo phóng xạ rất cao và nhiệt phải được loại bỏ khỏi lò phản ứng để tránh thoát nước. Lò phản ứng được làm mát bằng nước hoặc trao đổi nhiệt được làm bằng không khí. Các bộ trao đổi nhiệt đã loại bỏ nhiệt gây ra bởi phản ứng và khí làm mát sau đó được tái chế trở lại lò phản ứng.

Phản ứng giữa silicon và khí clo có đặc tính ăn mòn cao, thiết bị được sử dụng trong quá trình sản xuất phải chống ăn mòn. Lò phản ứng, bộ trao đổi nhiệt và các thiết bị khác thường được làm bằng các vật liệu như titan.

Điều kiện phản ứng:

Phản ứng giữa silicon và khí clo bức xạ rất cao và nhiệt độ trên 800 ° C là cần thiết để phản ứng. Phản ứng thường được thực hiện với sự hiện diện của các chất xúc tác như carbon hoặc sắt hoạt hóa. Chất xúc tác giúp bắt đầu phản ứng và tăng hiệu quả của tetrachloride silicon.

Phản ứng giữa silicon và khí clo cũng phụ thuộc rất nhiều vào tốc độ của silicon và khí clo. Tỷ lệ thực phẩm tối ưu thường nằm trong khoảng từ 1: 3 đến 1: 4.5. Nếu tốc độ thực phẩm quá thấp, silicon không phản ứng sẽ được loại bỏ khỏi lò phản ứng và sản xuất silicon tetracloride sẽ giảm. Nếu tốc độ quá cao, khí clo dư sẽ phản ứng với silicon tetrachloride để tạo thành trichlorosilane, đây là một sản phẩm có giá trị thấp hơn.

Ứng dụng:

Một trong những ứng dụng quan trọng nhất của silicon tetrachloride là sản xuất silicon có độ tinh khiết cao. Silicon có độ tinh khiết cao được sử dụng trong sản xuất chất bán dẫn và pin mặt trời. Nó cũng được sử dụng trong sản xuất sợi quang, được sử dụng trong truyền thông và truyền dữ liệu. Chúng cũng được sử dụng trong sản xuất các thiết bị y tế, như ống thông và cấy ghép.

Công ty chứng khoán chung của Dong A tự hào là người tiên phong trong lĩnh vực sản xuất các sản phẩm hóa học cơ bản như NaOH, HCL, PAC, Javen, clo lỏng, clo (canxi hypochlorite) cho các ngành công nghiệp trong nước.